圆管抛光机操作的关键是要设法得到最大的抛光速率，抛光时间以抛掉粗抛的损害层为宜。精抛后磨面明亮如镜，精抛时转盘速度可适当提高。显微镜明视场条件下看不到划痕，但在相衬照明条件下则仍可见到磨痕。抛光机抛光质量的利弊严重影响试样的结构构造，已缓缓引起有关专家的器重。连年来，国内外在抛光机的性能上作了大批的研究任务，研究出不少新机型、新一代的抛光设备，正由原来的手动把持生长成为各种百般的半自动及全自动抛光机。

这一阶段应具有最大的抛光速率，处置这个抵触的最好的办法就是把抛光分为两个阶段进行。粗抛目的去除磨光损害层。粗抛形成的表层伤害是非主流的斟酌，不过也应当尽可能小；其次是精抛(或称终抛)其目的去除粗抛产生的表层伤害，使抛光损伤减到最小。抛光时，试样磨面与抛光盘应绝对平行并均匀地轻压在抛光盘上，重视防备试样飞出和因压力太大而产生新磨痕。同时还应使试样自转并沿转盘半径倾向来回挪动，以预防抛光织物全体磨损太快在抛光过程中要不断增加微粉悬浮液，使抛光织物保持一定湿度。湿度太大会减弱抛光的磨痕作用，使试样中硬相显现浮凸和钢中非金属搀和物及铸铁中石墨相产生“曳尾”景象；湿度太小时，由于矛盾生热会使试样升温，滑腻传染感动减小，磨面失去光泽，甚至浮现黑斑，轻合金则会抛伤表面。为了达到粗抛的目的恳求转盘转速较低，最好不要跨越600r/min抛光时间应当比去掉划痕所需的时间长些，因为还要去掉变形层。粗抛后磨面光滑，但黯淡无光，显微镜下观察有均匀细致的磨痕，有待精抛消除。